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      微電子光刻實驗凈化工作臺設計,使用水平層流凈化工作臺用于光電子行業

      [導讀]蘇州凈化SW-CJ-1CU雙人單面凈化工作臺:潔凈等級:100級@≥0.5μm;菌落數:≤0.5個/皿.時;平均風速:0.25~0.45m/s;最大功率:800W;重量:400kg;適用人數:雙人單面 水平送風;工作區尺寸:1770×500×600mm;外形尺寸:1820×745×1570mm,,凈化工作臺是一種創造局部100級無塵、無菌環境的理想設備。

      在高校的微電子、半導體物理實驗中,光刻實驗是必不可少的實驗之一。光刻實驗對環境的潔凈度要求很高,一般高校在沒有財力建設潔凈室的情況下,凈化工作臺成為了進行光刻實驗不可缺鈔少的公要設備。一般來說光刻實驗進行的步驟有∶旋涂光刻膠;光刻膠的前烘;曝光,顯影;后烘等步驟構成。在這些實驗步驟中所涉及的化學藥品較多,而這些化學藥品的溶劑多為苯類披質,如果處理不當將給實驗人員帶來較大的傷害。同時,由于實驗的步驟較多,實驗人員需要頻絜地從凈化工作臺中取、放物品,這將引入大量的灰塵影響工作時的潔凈度。因此,設計一種低成本,有效租隔有毒氣體,提高工作時潔凈度的凈化工作臺顯得十分重要。


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